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產(chǎn)品資料

洗滌溶液比重線上監(jiān)測儀

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產(chǎn)品名稱: 洗滌溶液比重線上監(jiān)測儀
產(chǎn)品型號: TWD-EW-ONLINE
產(chǎn)品展商: 臺灣瑪芝哈克
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

適用于:氯化鐵、氯化銅蝕刻槽、碳酸鈉水溶液、鹽酸及雙氧水混合溶液、氫氧化鈉水溶液洗滌槽等工業(yè)制程的溶液比重、濃度控制場所。


洗滌溶液比重線上監(jiān)測儀  的詳細(xì)介紹

原理:參考GB/T611、T2423、T22230、T5009、ISO 6353、758規(guī)范。應(yīng)用流體靜力學(xué)浮力法、流體力學(xué)Bernoulli 原理在線 監(jiān)測蝕刻、洗滌溶液的比重變化。再應(yīng)用Lagrange內(nèi)插法轉(zhuǎn)換蝕刻、洗滌溶液的濃度。監(jiān)測在線溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù)。

規(guī)格:

型號:

TWD-EW-ONLINE

比重范圍:

0.0001~2.0000(玻璃砝碼) 

測試種類:

S.G、C%

比重精度:

0.0001

濃度范圍:

0.1%~100.0%

標(biāo)準(zhǔn)接口:

RS-232

 


技術(shù)數(shù)據(jù):

1、   碳酸鈉水溶液可將膜面上未受光照的區(qū)域顯影去除。

2、   鹽酸及雙氧水混合溶液可將裸露出來的銅箔腐蝕去除,形成線路。

3、   氫氧化鈉水溶液是強(qiáng)電解質(zhì),可將功成身退的干膜光阻洗除。

4、   印制電路中蝕刻速率降低與溶液比重、氯化銨的含量(濃度)有關(guān)。

5、   蝕刻液中的氯離子濃度過高,將造成印制電路中金屬抗蝕鍍層被浸蝕。

6、   蝕刻液中的氯化鈉含量過低,將造成印制電路中銅表面發(fā)黑,蝕刻不動。

操作說明

1、  此設(shè)備將主機(jī)置放在一個容易操作的平臺上,主機(jī)前方裝設(shè)取樣槽。

2、  待測液體經(jīng)由取樣槽內(nèi)的進(jìn)出孔進(jìn)出,透過取樣槽內(nèi)感應(yīng)球的浮力變化自動顯出液體的

   比重值。

3、  透過連續(xù)的動作即可完成在線蝕刻、洗滌溶液比重的測量與監(jiān)控。并轉(zhuǎn)換讀取在線蝕

   刻、洗滌溶液濃度的動態(tài)數(shù)據(jù)。

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